采用動態離心分離原理，確保研磨介質與物料的無障礙分離，出料順暢，最小可使用0.03mm研磨介質，實現100nm以下的物料研磨，可以達到納米化幾何尺寸的極限。在線咨詢應用領域正極材料、負極材料、陶瓷材料、納米二氧化鈦、MLCC、數碼噴墨、油墨材料、拋光材料、LCD等納米材料。 琥崧優勢出料口反推設計：出料更順暢，流量大、溫度低、壓力低鋯珠運動更活躍，研磨效率更高能耗低
